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◆ 快速退火爐是利用紅外熱輻射實現(xiàn)快速加熱的一種半導體熱處理工藝設備，通過燈光輻射型熱源功率控制模塊裝置和專用燈組對位于工藝腔體的半導體硅片進行快速加熱來實現(xiàn)穩(wěn)定的升溫過程

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